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データ編集部

設備投資、生産能力、市場統計、決算数値を継続的に整理し、比較可能なデータとして提示します。

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MPWは試作費を下げるが、量産移行リスクは消さない

複数設計でマスクとウェハーを共有するMPWは先端ノードへの入口を広げる。一方、固定日程、面積制限、少数サンプル、パッケージ・テスト準備が量産判断を難しくする。

CXL 4.0はメモリを部品から共有資源へ変えるか

サーバーごとに固定されてきたメモリを、ラック全体で配分する構想が現実味を増す。だが帯域の標準化だけでは、利用率は上がらない。

EDAとIPは半導体の見えない工場である

製造装置がなくてもチップは作れないが、設計を検証し、物理実装し、再利用IPを統合するソフトウェアが止まってもテープアウトは止まる。

High-NA EUVは技術必然ではなく、経済選択である

解像度が高い装置を導入すれば勝てるわけではない。露光回数、歩留まり、スループット、マスク、レジスト、設計ルールを合わせた総コストで判断する必要がある。